Камуфлирующие базы средней густоты светоотражающие полупрозрачные Луи Филипп зеленого цвета

Особенности и преимущества

База для гель-лаков – незаменимый компонент в процессе формирования трехфазного покрытия. Применение такой основы отличается рядом особых преимуществ:

• Усиление адгезии тканей ногтевой пластинки и декоративного материала;
• Выравнивание поверхности ногтевой пластинки, улучшение рельефа, дополнительный элемент в моделировании;
• Укрепление и протекция.

Для наращенных ногтей база служит специфическим элементом скрепления искусственного полотна с любыми декоративными материалами. Базы представлены в широком ассортименте. Они отличаются друг от друга по составу и функциональному наполнению, могут быть окрашены с помощью пигментов (каучуковая, силиконовая, акриловая, база-камуфляж, витаминизированная).

Технология работы с составом

Существует ряд общих принципов работы с базой вне зависимости от того, какого она типа и вида. Правильное нанесение основы – гарантия эффектного и долговечного маникюра. База придает ногтевой пластинке требуемую плотность.

Ключевые этапы:

1. Ногтевые пластинки шлифуют, моделируют форму и задают требуемую длину, устраняют кутикулу, прибегают к другим ухаживающим процедурам, если это необходимо.
2. Наносят праймер.

3. С помощью кисточки наносится небольшое количество базы. Вещество необходимо аккуратно растянуть по всему полотну. Затем добавляют еще каплю плотной базы, равномерно распределяя по рабочей поверхности. Движения – четкие, но аккуратные. В работе избегают попадания базы на кутикулу и боковые валики вокруг пластины.
4. Базу необходимо просушить в лампе. Высохший материал имеет липкую поверхность. Ее не удаляют, поскольку дисперсионный слой позволяет лучше скрепить последующие декоративные материалы на полотне.
5. Время полимеризации в лампе:
• УФ - 60 секунд;
• LED – 30 секунд.

Чтобы оценить качество проделанной работы, достаточно просто внимательно рассмотреть поверхность ногтей. Если пластинки ровные и имеют однородный привлекательный блеск, все получилось.